上作画图案。

第一次曝光结束。

取出硅片蚀刻清洗，紧接着是第二次涂抹光刻胶，林天用上了第二台光刻机。

第二次曝光很明显，他比第一次专注了许多。

“第二次光刻不能用任何偏差，曝光的图案应该在第一次图案纳米图案的中间位置。”

“这就好比一条主干道，第一次我们是修了这个主干道，第二次就是在这个主干道的中间画上一条两边对称的线。”

没有技巧，全凭经验。

林天启动光刻机，进行第二次的曝光，让光刻胶疲软，紧接着继续用蚀刻溶剂清洗。

每次曝光、蚀刻都会在半导体硅片留下图案，一连四次的曝光让冯承铭等工程师看得目瞪口呆。

最后一次时，林天继续讲解道：“第四次曝光，不仅要进行光刻，还要进行离子注入，增加电导性，说白了，就是你们之前学的单次芯片生产步骤。”

“但重点是，我第三步是先刻画道路的左边，第四步，则是要刻画道路的右边，这样一来，完整的电路图案就显现了。”

简单讲述后，他不断用设备调整光掩膜版，当达到预定位置时，他再次启动光刻机。

光刻机在接收到启动指令后，立即就对12寸半导体，接近三百个芯片裸片进行曝光。

五分钟后。

半导体硅片被取出。

此刻所有人大气不敢喘，冯承铭接过硅片以后，亲自去切割检测参数性能。

当检测仪器显示，该裸片的纳米等级是14纳米，并且电路图完美运行那刻，他强压心中的激动，郑重宣布道：

“成了1

“soc上帝芯片成了！！1

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咳咳，刚才复制章节错了，现在改回来了，抱歉。

(本章完)